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先进Ti硅化物源漏接触技术研究 学位论文
: 中国科学院大学, 2019
作者:  毛淑娟
收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2019/09/05
One-Step SH2 Superbinder-Based Approach for Sensitive Analysis of Tyrosine Phosphoproteome 期刊论文
JOURNAL OF PROTEOME RESEARCH, 2019, 卷号: 18, 期号: 4, 页码: 1870-1879
作者:  Li, Yanan;  Yao, Yating;  Wang, Yan;  Wang, Shujuan;  Liu, Xiaoyan
收藏  |  浏览/下载：65/0  |  提交时间：2019/06/20
Grain size effect on the dielectric and non-ohmic properties of CaCu3Ti4O12 ceramics prepared by the sol-gel process 期刊论文
Journal of Alloys and Compounds, 2019, 卷号: 778, 页码: 625-632
作者:  Mao, Pu;  Wang, Jiping;  Liu, Shujuan;  Zhang, Lixue;  Zhao, Yingying
收藏  |  浏览/下载：122/0  |  提交时间：2019/11/19
A viscoelastic model for hydrothermally activated malleable covalent network polymer and its application in shape memory analysis 期刊论文
Journal of the Mechanics and Physics of Solids, 2019, 卷号: Vol.127, 页码: 239-265
作者:  Yiqi Mao;  Fen Chen;  Shujuan Hou;  H. Jerry Qi;  Kai Yu
收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/12/17
Platelet integrin IIb3: signal transduction, regulation, and its therapeutic targeting 期刊论文
JOURNAL OF HEMATOLOGY & ONCOLOGY, 2019, 卷号: 12, 期号: 1, 页码: 26
作者:  Huang, Jiansong[1];  Li, Xia[2];  Shi, Xiaofeng[3];  Zhu, Mark[4];  Wang, Jinghan[5]
收藏  |  浏览/下载：41/0  |  提交时间：2019/12/24
Improved Ti germanosilicidation by Ge pre-amorphization implantation (PAI) for advanced contact technologies 期刊论文
Microelectronic Engineering, 2018
作者:  Mao SJ(毛淑娟);  Wang GL(王桂磊);  Xu J(许静);  Zhang D(张丹);  Luo X(罗雪)
收藏  |  浏览/下载：45/0  |  提交时间：2019/05/05
Impact of Ge Preamorphization Implantation on Both the Formation of Ultrathin TiSix and the Specific Contact Resistivity in TiSix/n-Si Contacts 期刊论文
IEEE Transactions on Electron Devices, 2018
作者:  Ye TC(叶甜春);  Mao SJ(毛淑娟);  Wang GL(王桂磊);  Xu J(许静);  Luo X(罗雪)
收藏  |  浏览/下载：36/0  |  提交时间：2019/05/05
Enhancing the thermal stability of NiGe by prior-germanidation fluorine implantation into Ge substrate 期刊论文
Japanese Journal of Applied Physics, 2018
作者:  Zhang D(张丹);  Wang WW(王文武);  Chen DP(陈大鹏);  Li JF(李俊峰);  Liu S(刘实)
收藏  |  浏览/下载：21/0  |  提交时间：2019/05/20
Impact of Ge pre-amorphization implantation on forming ultrathin TiGe x on both n-and p-Ge substrate 期刊论文
Japanese Journal of Applied Physics, 2018
作者:  Liu S(刘实);  Li JF(李俊峰);  Wang WW(王文武);  Chen DP(陈大鹏);  Zhao C(赵超)
收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2019/05/20
半导体器件制造方法 专利
专利号: CN201210382067.7, 申请日期: 2018-02-13, 公开日期: 2014-04-16
作者:  秦长亮;  梁擎擎;  殷华湘;  毛淑娟
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