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| Investigation of dipole origin at high k dielectric hetero-junction interface 期刊论文
49th IEEE Semiconductor, 2018
作者: Ye TC(叶甜春) ; Wang WW(王文武); Zhou LX(周丽星); Wang XL(王晓磊); Xiang JJ(项金娟)
  收藏 | 浏览/下载：28/0 | 提交时间：2019/05/20 |
| FPGA and ASIC implementation of reliable and effective architecture for a LTE downlink transmitter 期刊论文
IEICE Electronics Express, 2018
作者: Ye TC(叶甜春); Wu B(吴斌); Wang Z(王洲)
收藏 | 浏览/下载：25/0 | 提交时间：2019/05/22 |
| Understanding dipole formation at dielectric/dielectric hetero-interface 期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2018
作者: Wang YR(王艳蓉); Xiang JJ(项金娟); Yang H(杨红); Jing Zhang; Zhao C(赵超)
收藏 | 浏览/下载：38/0 | 提交时间：2019/05/20 |
| Identification of interfacial defects in a Ge gate stack based on ozone passivation 期刊论文
Semiconductor Science and Technology, 2018
作者: Wang YR(王艳蓉); Xiang JJ(项金娟); Yang H(杨红); Zhang J(张静); Zhao C(赵超)
收藏 | 浏览/下载：37/0 | 提交时间：2019/05/20 |
| Improved Ti germanosilicidation by Ge pre-amorphization implantation (PAI) for advanced contact technologies 期刊论文
Microelectronic Engineering, 2018
作者: Mao SJ(毛淑娟); Wang GL(王桂磊); Xu J(许静); Zhang D(张丹); Luo X(罗雪)
收藏 | 浏览/下载：45/0 | 提交时间：2019/05/05
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| Comprehensive investigation of the interfacial charges and dipole in GeOx/Al2O3 gate 期刊论文
Japanese Journal of Applied Physics, 2018
作者: Wang YR(王艳蓉); Xiang JJ(项金娟); Yang H(杨红); Zhang J(张静); Zhao C(赵超)
收藏 | 浏览/下载：29/0 | 提交时间：2019/05/20 |
| 半导体器件及其制造方法 专利
专利号: CN201510580584.9, 申请日期: 2018-09-18, 公开日期: 2015-11-25
作者: 叶甜春; 霍宗亮
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| 三维半导体器件及其制造方法 专利
专利号: CN201510680212.3, 申请日期: 2018-09-18, 公开日期: 2016-02-24
作者: 叶甜春; 霍宗亮
收藏 | 浏览/下载：26/0 | 提交时间：2019/03/12 |
| 三维半导体器件及其制造方法 专利
专利号: CN201510885268.2, 申请日期: 2018-09-18, 公开日期: 2016-04-06
作者: 叶甜春
收藏 | 浏览/下载：19/0 | 提交时间：2019/03/12 |
| Retargeting of forbidden-dense-alternate structures for lithography capability improvement in advanced nodes 期刊论文
APPLIED OPTICS, 2018
作者: He JF(何建芳); Dong LS(董立松); Ye TC(叶甜春); Zhao LJ(赵利俊); Wei YY(韦亚一)
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