QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序作者升序作者降序 Isotropic Silicon Etching With XeF2 Gas for Wafer-Level Micromachining Applications 期刊论文 journal of microelectromechanical systems, 2012 Xu, Dehui; Xiong, Bin; Wu, Guoqiang; Wang, Yuchen; Sun, Xiao; Wang, Yuelin 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2015/11/12 Design rule  isotropic etching  microelectromechanical systems (MEMS)  micromachining  wafer level  XeF2 gas  APERTURE SIZE  MEMS  SIMULATION  SENSORS  VAPOR   Isotropic Silicon Etching With XeF2 Gas for Wafer-Level Micromachining Applications 期刊论文 JOURNAL OF MICROELECTROMECHANICAL SYSTEMS, 2012, 卷号: 21, 期号: 6, 页码: 1436-1444 Xu, DH; Xiong, B; Wu, GQ; Wang, YC; Sun, X; Wang, YL 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2013/04/23 Design rule  isotropic etching  microelectromechanical systems (MEMS)  micromachining  wafer level  XeF2 gas   Uncooled Thermoelectric Infrared Sensor With Advanced Micromachining 期刊论文 IEEE SENSORS JOURNAL, 2012, 卷号: 12, 期号: 6, 页码: - Xu, DH; Xiong, B; Wu, GQ; Ma, YL; Wang, YL 收藏  |  浏览/下载：15/0  |  提交时间：2013/04/23 Advanced micromachining  microelectromechanical systems (MEMS)  thermoelectric  uncooled infrared sensor  wet silicon etching  XeF2 silicon etching   Integrated micromachined thermopile IR detectors with an XeF2 dry-etching process 期刊论文 JOURNAL OF MICROMECHANICS AND MICROENGINEERING, 2009, 卷号: 19, 期号: 12, 页码: 125003-125003 Xu, DH; Xiong, B; Wang, YL; Liu, MF; Li, T 收藏  |  浏览/下载：17/0  |  提交时间：2011/12/17 CMOS  SENSORS  SILICON  SI   A new method for protection of anchors in releasing microstructure, by using XeF2 etching process 期刊论文 TRANSDUCERS '07 & EUROSENSORS XXI, DIGEST OF TECHNICAL PAPERS, VOLS 1 AND 2, 2007, 页码: U284-U285 Fei, F; Guangli, Y; Bin, X; Yuelin, W 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2012/03/24 SILICON  FABRICATION