×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
上海微系统与信息技... [12]
内容类型
期刊论文 [12]
发表日期
2009 [1]
2008 [2]
2006 [2]
2005 [2]
2004 [2]
2003 [1]
更多...
学科主题
Physics, A... [3]
Chemistry,... [1]
Chemistry,... [1]
Electroche... [1]
Engineerin... [1]
Engineerin... [1]
更多...
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共12条,第1-10条
帮助
限定条件
专题:上海微系统与信息技术研究所
第一署名单位
第一作者单位
通讯作者单位
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
Boron-Doped Palladium Nanoparticles on Carbon Black as a Superior Catalyst for Formic Acid Electro-oxidation
期刊论文
JOURNAL OF PHYSICAL CHEMISTRY C, 2009, 卷号: 113, 期号: 19, 页码: 8366-8372
Wang, JY
;
Kang, YY
;
Yang, H
;
Cai, WB
收藏
  |  
浏览/下载:19/0
  |  
提交时间:2011/11/04
FUEL-CELL
ANODIC CATALYST
THIN-FILMS
ELECTROCATALYTIC ACTIVITY
ELECTRON-MICROSCOPY
METAL NANOCRYSTALS
PD NANOPARTICLES
OXIDATION
ABSORPTION
ADSORPTION
Carbon-supported Pd-Pt Alloy Nanoparticles for Methanol Tolerant Oxygen Reduction
期刊论文
PROTON EXCHANGE MEMBRANE FUEL CELLS 8, PTS 1 AND 2, 2008, 卷号: 16, 期号: 2, 页码: 613-619
Wang, WM
;
Li, ZL
;
Zou, ZQ
;
Yang, H
;
Feng, SL
收藏
  |  
浏览/下载:18/0
  |  
提交时间:2011/11/04
FUEL-CELLS
ELECTROCATALYSTS
CATALYSTS
ORR
ELECTRODES
OXIDATION
DESIGN
The effect of blocking layer of Al2O3 on thermal stability and electrical properties of HfO2 dielectric films deposited on SiGe layer
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2008, 卷号: 85, 期号: 9, 页码: 1888-1891
Cheng, XH
;
He, DW
;
Zhaorui, SR
;
Yu, YH
;
Shen, DS
收藏
  |  
浏览/下载:16/0
  |  
提交时间:2012/03/24
INTERFACIAL CHARACTERISTICS
GATE DIELECTRICS
OXIDATION
Thermal annealing effects on the structure and electrical properties of Al2O3 gate dielectrics on fully depleted SiGe on insulator
期刊论文
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B, 2006, 卷号: 24, 期号: 3, 页码: 1151-1155
Di, ZF
;
Zhang, M
;
Liu, WL
;
Shen, QW
;
Luo, SH
;
Song, ZT
;
Lin, CL
;
Chu, PK
收藏
  |  
浏览/下载:15/0
  |  
提交时间:2012/03/24
RAY PHOTOELECTRON-SPECTROSCOPY
ATOMIC-LAYER DEPOSITION
INTERFACIAL CHARACTERISTICS
STRAINED-SI
THIN-FILMS
ULTRATHIN
SILICON
HETEROSTRUCTURE
OXIDATION
CHANNEL
Electrical and interfacial characteristics of nanolaminate (Al2O3/ZrO2/Al2O3) gate stack on fully depleted SiGe-on-insulator
期刊论文
MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING, 2006, 卷号: 9, 期号: 6, 页码: 959-963
Di, ZF
;
Zhang, M
;
Liu, WL
;
Shen, QW
;
Song, ZT
;
Lin, CL
;
Huang, AP
;
Chu, PK
收藏
  |  
浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2012/03/24
OXIDATION
MOBILITY
Interfacial characteristics of fully depleted SiGe-on-insulator (SGOI) substrate fabricated by modified Ge condensation
期刊论文
SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY, 2005, 卷号: 20, 期号: 8, 页码: L31-L35
Di, ZF
;
Zhang, M
;
Liu, WL
;
Luo, SH
;
Song, ZT
;
Lin, CL
;
Lin, Q
;
Chu, PK
收藏
  |  
浏览/下载:18/0
  |  
提交时间:2012/03/24
ELECTRON-MOBILITY ENHANCEMENT
STRAINED-SI
DIFFUSION
OXIDATION
GERMANIUM
SILICON
ALLOYS
Self-organized Ge nanocrystals embedded in HfAlO fabricated by pulsed-laser deposition and application to floating gate memory
期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2005, 卷号: 86, 期号: 1, 页码: 13110-13110
Liu, WL
;
Lee, PF
;
Dai, JY
;
Wang, J
;
Chan, HLW
;
Choy, CL
;
Song, ZT
;
Feng, SL
收藏
  |  
浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2012/03/24
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
DEVICE
HFO2
DIELECTRICS
OXIDATION
SIO2
Comparative study of SOI/Si hybrid substrates fabricated using high-dose and low-dose oxygen implantation
期刊论文
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, 2004, 卷号: 37, 期号: 13, 页码: 1732-1735
Dong, YM
;
Chen, M
;
Chen, J
;
Wang, X
;
Wang, X
收藏
  |  
浏览/下载:11/0
  |  
提交时间:2012/03/24
BURIED OXIDE LAYERS
ION-IMPLANTATION
SILICON
OXIDATION
Structure and electric property comparison between Ge nanoclusters embedded in Al2O3 and Al2O3/ZrO2
期刊论文
METALS AND MATERIALS INTERNATIONAL, 2004, 卷号: 10, 期号: 2, 页码: 161-165
Liu, WL
;
Wan, Q
;
Lin, CL
收藏
  |  
浏览/下载:12/0
  |  
提交时间:2012/03/24
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
SI NANOCRYSTALS
SILICON-NITRIDE
LAYERS
FILMS
PHOTOLUMINESCENCE
DIELECTRICS
STABILITY
OXIDATION
EMISSION
Structural and electrical characteristics of Ge nanoclusters embedded in Al2O3 gate dielectric
期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2003, 卷号: 82, 期号: 26, 页码: 4708-4710
Wan, Q
;
Lin, CL
;
Liu, WL
;
Wang, TH
收藏
  |  
浏览/下载:13/0
  |  
提交时间:2012/03/24
SI NANOCRYSTALS
SILICON-NITRIDE
LAYERS
PHOTOLUMINESCENCE
DEPOSITION
OXIDATION
EMISSION
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace