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科研机构
上海技术物理研究所 [2]
内容类型
专利 [2]
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2014 [1]
2012 [1]
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高纯半导体材料的水平真空区熔制备方法
专利
专利类型: 发明, 专利号: 201110362040.7, 申请日期: 2014-01-01, 公开日期: 2015-01-06
1张可锋2林杏潮3张莉萍4 邵秀华5王仍6焦翠灵 7陆液 8杜云辰9宋坤骏10李向阳
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提交时间:2015/01/06
一种用于晶体等温气相外延工艺的石英容器
专利
专利号: 201110063540.0, 申请日期: 2012-01-01, 公开日期: 2013-01-14
作者:
1王仍 2李向阳 3 林杏潮 4张莉萍 5张可峰 6焦翠灵 7陆液 8 邵秀华 9 陆荣
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提交时间:2013/01/14
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