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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2017     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序作者升序作者降序 ICP刻蚀气压对碲镉汞电学性能的影响 期刊论文 半导体光电, 2017, 期号: 1, 页码: 61-65 作者:  操神送;  杜云辰;  朱龙源;  兰添翼;  赵水平 收藏  |  浏览/下载：22/0  |  提交时间：2018/11/20 ICP干法刻蚀  碲镉汞光导材料  刻蚀气压  电学特性