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基于纳米压印光栅的二次干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利号: CN106025795B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
作者:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  王文知;  仲莉
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基于纳米压印光栅的二次干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利号: CN106025795B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
作者:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  王文知;  仲莉
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基于纳米压印光栅的两步干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利号: CN106099637B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
作者:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  仲莉;  刘素平
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基于纳米压印光栅的两步干法刻蚀方法及外延片和激光器 专利
专利号: CN106099637B, 申请日期: 2019-09-24, 公开日期: 2019-09-24
作者:  王海丽;  赵懿昊;  张奇;  仲莉;  刘素平
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一种改善VCSEL侧壁形貌的干法刻蚀方法 专利
专利号: CN110137804A, 申请日期: 2019-08-16, 公开日期: 2019-08-16
作者:  刘恒;  王俊;  谭少阳;  荣宇峰;  曾冠澐
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三维硅基微型储能系统纳米阵列阳极的制备及特性研究 学位论文
2017, 2016
岳闯
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ICP刻蚀气压对碲镉汞电学性能的影响 期刊论文
半导体光电, 2017, 期号: 1, 页码: 61-65
作者:  操神送;  杜云辰;  朱龙源;  兰添翼;  赵水平
收藏  |  浏览/下载:22/0  |  提交时间:2018/11/20
AlGaN基深紫外发光二极管和激光器关键技术研究 学位论文
博士, 北京: 中国科学院研究生院, 2016
田迎冬
收藏  |  浏览/下载:70/0  |  提交时间:2016/06/01
量子点光子晶体激光器的理论研究与工艺制备 期刊论文
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所, 2016, 期号: 3
作者:  邢恩博
收藏  |  浏览/下载:16/0  |  提交时间:2017/09/17
一种用于制备蓝宝石衬底的GaN基半导体激光器腔面的方法 专利
专利号: CN103915757A, 申请日期: 2014-07-09, 公开日期: 2014-07-09
作者:  王金翠;  沈燕;  张木青;  刘欢;  刘长江
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