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大连理工大学 [7]
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2019 [5]
2018 [1]
2016 [1]
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Insights into the atomistic behavior in diamond chemical mechanical polishing with center dot OH environment using ReaxFF molecular dynamics simulation
期刊论文
COMPUTATIONAL MATERIALS SCIENCE, 2019, 卷号: 166, 页码: 136-142
作者:
Shi, Zhuoying
;
Jin, Zhuji
;
Guo, Xiaoguang
;
Yuan, Song
;
Guo, Jiang
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/12/02
Diamond
Chemical mechanical polishing
Removal mechanism
Molecular dynamics simulation
ReaxFF
Atomistic mechanisms of chemical mechanical polishing of diamond (100) in aqueous H2O2/pure H2O: Molecular dynamics simulations using reactive force field (ReaxFF)
期刊论文
COMPUTATIONAL MATERIALS SCIENCE, 2019, 卷号: 157, 页码: 99-106
作者:
Guo, Xiaoguang
;
Yuan, Song
;
Wang, Xiaoli
;
Jin, Zhuji
;
Kang, Renke
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2019/12/02
Molecular dynamics
ReaxFF
CMP
Diamond
Mechanochemistry
REAXFF MOLECULAR DYNAMICS SIMULATION OF MATERIAL REMOVAL MECHANISMS DURING CMP PROCESS OF SILICA GLASS IN AQUEOUS H2O2
会议论文
2019 CHINA SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY INTERNATIONAL CONFERENCE (CSTIC), 2019-01-01
作者:
Guo, Xiaoguang
;
Chen, Chong
;
Kang, Renke
;
Jin, Zhuji
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2019/12/02
Diamond nanoscale surface processing and tribochemical wear mechanism
期刊论文
DIAMOND AND RELATED MATERIALS, 2019, 卷号: 94, 页码: 8-13
作者:
Yuan, Song
;
Guo, Xiaoguang
;
Lu, Menggang
;
Jin, Zhuji
;
Kang, Renke
收藏
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浏览/下载:9/0
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提交时间:2019/12/02
ReaxFF molecular dynamics
Diamond
Tribochemical wear mechanism
CMP
Aqueous H2O2
Chemical reaction mechanism of Cu surface in aqueous H2O2MD simulations using ReaxFF reactive force field
会议论文
19th International Conference of the European Society for Precision Engineering and Nanotechnology, EUSPEN 2019, Bilbao, Spain, 2019-06-03
作者:
Guo, Xiaoguang
;
Wang, Xiaoli
;
Jin, Zhuji
;
Kang, Renke
;
Gao, Hang
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/02
Atomistic mechanisms of Cu CMP in aqueous H2O2: Molecular dynamics simulations using ReaxFF reactive force field
期刊论文
COMPUTATIONAL MATERIALS SCIENCE, 2018, 卷号: 155, 页码: 476-482
作者:
Guo, Xiaoguang
;
Wang, Xiaoli
;
Jin, Zhuji
;
Kang, Renke
收藏
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/12/02
Copper
Chemical mechanical polishing (CMP)
ReaxFF reactive force field
Polishing pressure
氧化锌薄膜表面气体吸附的反应分子动力学模拟
会议论文
第十四届全国敏感元件与传感器学术会议论文集中国仪器仪表学会;中国电子学会;中国航空学会;中国生物工程学会, 成都, 2016-10-14
作者:
周君伟
;
余隽
;
李婷
;
吴昊
;
黄正兴
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/09
氧化锌 气体吸附 ReaxFF 分子动力学
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