×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
大连理工大学 [2]
高能物理研究所 [1]
安徽大学 [1]
福州大学 [1]
合肥物质科学研究院 [1]
内容类型
期刊论文 [5]
会议论文 [1]
发表日期
2019 [1]
2016 [3]
2012 [1]
2011 [1]
学科主题
Materials ... [1]
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共6条,第1-6条
帮助
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
Effects of deposition temperature on the properties of sputtered yttrium-doped hafnium oxide thin films
期刊论文
MATERIALS RESEARCH EXPRESS, 2019, 卷号: 6
作者:
Zhao, Peng
;
Zhou, Dayu
;
Liu, Feng
;
Sun, Nana
;
Li, Shuaidong
收藏
  |  
浏览/下载:8/0
  |  
提交时间:2019/12/02
yttrium-doped hafnium oxide
temperature
composition
phase structure
surface morphology
electrical properties
Microstructure, wettability, optical and electrical properties of HfO2 thin films: Effect of oxygen partial pressure
期刊论文
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2016, 卷号: 662, 期号: 无, 页码: 339-347
作者:
Gao, J.
;
He, G.
;
Deng, B.
;
Xiao, D. Q.
;
Liu, M.
收藏
  |  
浏览/下载:14/0
  |  
提交时间:2017/10/18
Hfo2 Thin Films
Rf Sputtering
Optical Properties
Band Gap
Wettability
Microstructure, wettability, optical and electrical properties of HfO2 thin films: Effect of oxygen partial pressure
期刊论文
Journal of Alloys and Compounds, 2016, 卷号: Vol.662, 页码: 339-347
作者:
Jin,P.
;
Xiao,D. Q.
;
Zheng,C. Y.
;
Sun,Z. Q.
;
Liu,M.
收藏
  |  
浏览/下载:2/0
  |  
提交时间:2019/04/22
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
SPUTTERED HAFNIUM OXIDE
GATE DIELECTRICS
RATIO
MODULATION
COATINGS
LAYER
Facing-target mid-frequency magnetron reactive sputtered hafnium oxide film: Morphology and electrical properties
期刊论文
JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY, 2016, 卷号: 68, 页码: 679-685
作者:
Zhang, Yu
;
Xu, Jun
;
Wang, You-Nian
;
Choi, Chi Kyu
;
Zhou, Da-Yu
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2019/12/09
Hafnium oxide
CMOS
Roughness
Leakage current
Effects of Oxygen Partial Pressure on the Sputtered Hafnium Oxide Thin Films for Resistive Random-Access Memory
会议论文
作者:
Xie, Zhongliang
;
Lai, Yunfeng
收藏
  |  
浏览/下载:1/0
  |  
提交时间:2019/11/21
RE Reactive Magnetron Sputtering
Resistance Change
RRAM
Hafnium Oxide
Spectroscopic ellipsometry and positron annihilation investigation of sputtered HfO2 films
期刊论文
THIN SOLID FILMS, 2011, 卷号: 519, 期号: 19, 页码: 6349-6353
作者:
Ma, ZW
;
Liu, LX
;
Xie, YZ
;
Su, YR
;
Zhao, HT
收藏
  |  
浏览/下载:20/0
  |  
提交时间:2016/06/29
Hafnium dioxide
Spectroscopic ellipsometry
Positron annihilation spectroscopy
Open volume defects
Sputtering
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace