中国开放科研知识云: 检索

侧墙铬衰减型新结构移相掩模的应用 期刊论文
半导体学报, 2006, 卷号: 27, 期号: 增刊, 页码: 340-342
作者: 谢常青; 刘明; 陈宝钦; 叶甜春

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50nm X射线光刻掩模制备关键技术 期刊论文
核技术, 2004, 卷号: 27, 期号: 2, 页码: 96-98
作者: 叶甜春; 伊福廷; 彭良强; 张菊芳; 韩勇

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用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术 期刊论文
光电工程, 2004, 卷号: 31, 期号: 1, 页码: 1-4,39
作者: 陈宝钦; 冯伯儒; 张锦; 宗德蓉; 刘娟

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用于X射线光刻掩模的纳米金刚石膜成核研究 期刊论文
无机材料学报, 2004, 卷号: 19, 期号: 4, 页码: 887-894
作者: 刘志凌; 叶甜春; 陈大鹏; 吕反修; 李东辉

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一种新的SOI射频集成电路结构与工艺 期刊论文
微电子学, 2004, 卷号: 34, 期号: 5, 页码: 569-571
作者: 韩郑生; 杨荣; 李俊峰; 钱鹤

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电子束散射角限制投影光刻掩模研制 期刊论文
光电工程, 2004, 卷号: 31, 期号: 4, 页码: 13-16
作者: 杨清华; 董立军; 李兵; 陈宝钦; 刘明

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X射线光刻掩模后烘过程的瞬态热分析 期刊论文
微细加工技术, 2003, 期号: 2, 页码: 6，34-39
作者: 王永坤; 陈大鹏; 余雷; 余建祖

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深亚微米光学光刻工艺技术 期刊论文
电子工业专用设备, 2000, 卷号: 29, 期号: 3, 页码: 5，8-12
作者: 谢常青

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下一代光学掩模制造技术 期刊论文
微电子技术, 2000, 卷号: 28, 期号: 6, 页码: 4，1-4
作者: 谢常青

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193nm光学掩模与x射线掩模技术比较 期刊论文
半导体情报, 1999, 卷号: 36, 期号: 2, 页码: 4,39_42
作者: 谢常青; 叶甜春

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