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科研机构
光电技术研究所 [5]
内容类型
期刊论文 [5]
发表日期
2014 [1]
2011 [2]
2010 [2]
学科主题
Electric f... [1]
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专题:光电技术研究所
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Nanolithography method with controllable critical dimension based on evanescent waves coupling
期刊论文
Optik, 2014, 卷号: 125, 期号: 13, 页码: 3201-3203
作者:
Zhang, Yukun
;
Du, Jinglei
;
Yin, Shaoyun
;
Gao, Hongtao
;
Xia, Liangping
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  |  
浏览/下载:13/0
  |  
提交时间:2016/11/23
Resolution and stability analysis of localized surface plasmon lithography on the geometrical parameters of soft mold
期刊论文
APPLIED OPTICS, 2011, 卷号: 50, 期号: 13, 页码: 1963-1967
作者:
Zhang, Yukun
;
Du, Jinglei
;
Wei, Xingzhan
;
Shi, Lifang
;
Deng, Qiling
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  |  
浏览/下载:10/0
  |  
提交时间:2015/09/21
Resolution and stability analysis of localized surface plasmon lithography on the geometrical parameters of soft mold.
期刊论文
Applied Optics, 2011, 卷号: 50, 期号: 13, 页码: 1963-1967
作者:
Yukun Zhang
;
JinglEi Du
;
Xingzhan WEi
;
Lifang Shi
;
Qiling Deng
收藏
  |  
浏览/下载:12/0
  |  
提交时间:2016/11/03
Nanolithography method by using localized surface plasmon mask generated with polydimethylsiloxane soft mold on thin metal film
期刊论文
OPTICS LETTERS, 2010, 卷号: 35, 期号: 13, 页码: 2143-2145
作者:
Zhang, Yukun
;
Dong, Xiaochun
;
Du, Jinglei
;
Wei, Xingzhan
;
Shi, Lifang
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  |  
浏览/下载:7/0
  |  
提交时间:2015/09/21
Nanolithography method by using localized surface plasmon mask generated with polydimethylsiloxane soft mold on thin metal film
期刊论文
Optics Letters, 2010, 卷号: 35, 期号: 13, 页码: 2143-2145
作者:
Yukun Zhang
;
Xiaochun Dong
;
Jinglei Du
;
Xingzhan Wei
;
Lifang Shi
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2016/11/03
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