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科研机构
大连理工大学 [2]
内容类型
会议论文 [2]
发表日期
2011 [2]
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发表日期:2011
专题:大连理工大学
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Experiment on Non-Uniformity of Material Removal on Wafer surface in Wafer CMP
会议论文
4th Conference on Application of Diamond and Related Materials in China (CADRM2010)/1st International Symposium on Advances in Brazed Superabrasive Tools (ISABS2010), Xiamen, PEOPLES R CHINA, 2011-01-01
作者:
Su, Jianxiu
;
Du, Jiaxi
;
Chen, Xiqu
;
Ning, Xin
;
Kang, Renke
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提交时间:2019/12/18
Chemical mechanical polishing
Material Removal
Non-uniformity
Study on Lubricating Behavior in Chemical Mechanical Polishing
会议论文
ADVANCES IN GRINDING AND ABRASIVE TECHNOLOGY XVI
作者:
Su JX(苏建修)
;
Du, J.X.
;
Liu, X.L.
;
Liu, H.N.
;
Kang RK(康仁科)
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提交时间:2019/12/18
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