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科研机构
上海光学精密机械研... [10]
内容类型
期刊论文 [10]
发表日期
2008 [5]
2007 [1]
2005 [4]
学科主题
光学薄膜 [10]
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学科主题:光学薄膜
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45
50
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70
75
80
85
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Influences of CO
2
laser annealing on mechanical and laser-induced damage properties of ZrO
2
thin films
期刊论文
optik, 2008, 卷号: 119, 期号: 13, 页码: 624, 629
Wei Chaoyang
;
邓德刚
;
Tian Guanglei
;
贺洪波
;
邵建达
;
范正修
收藏
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浏览/下载:676/134
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提交时间:2009/09/22
CO2 laser annealing
Weak absorption
Laser-induced damage threshold
Residual stress
退火对HfO2/SiO2多层膜残余应力的影响
期刊论文
Chin. Opt. Lett., 2008, 卷号: 6, 期号: 3, 页码: 225, 227
申雁鸣
;
韩朝霞
;
邵建达
;
邵淑英
;
贺洪波
收藏
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浏览/下载:1274/170
  |  
提交时间:2009/09/22
退火
Annealing effects
HfO2/SiO2多层膜
Electron beam evaporation
残余应力
Y
2
O
3
stabilized ZrO
2
thin films deposited by electron-beam evaporation: Optical properties, structure and residual stresses
期刊论文
vacuum, 2008, 卷号: 83, 期号: 2, 页码: 366, 371
Xiao Qi-Ling
;
Xu Cheng
;
邵淑英
;
邵建达
;
范正修
收藏
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浏览/下载:652/164
  |  
提交时间:2009/09/22
YSZ thin films
Residual stress
Electron-beam evaporation
Refractive index
Structural properties
Influence of ytterbia content on residual stress and microstructure of Y2O3-ZrO2 thin films prepared by EB-PVD
期刊论文
chin. phys. lett., 2008, 卷号: 25, 期号: 9, 页码: 3433, 3435
Xiao Qi-Ling
;
邵淑英
;
贺洪波
;
邵建达
;
范正修
收藏
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浏览/下载:666/125
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提交时间:2009/09/22
STABILIZED-ZIRCONIA TBCS
DEPOSITION
COATINGS
ZRO2
沉积温度对氧化钇稳定氧化锆薄膜残余应力的影响
期刊论文
光学学报, 2008, 卷号: 28, 期号: 5, 页码: 1007, 1011
肖祁陵
;
贺洪波
;
邵淑英
;
邵建达
;
范正修
收藏
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浏览/下载:734/132
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提交时间:2009/09/22
薄膜光学
残余应力
氧化钇稳定氧化锆薄膜
沉积温度
Deposition temperature
Residual stress
Thin film optics
Yttria-stabilized zirconia thin films
Yttrial-stabilized zirconia films
Influences of oxygen partial pressure on structure and related properties of ZrO2 thin films prepared by electron beam evaporation deposition
期刊论文
appl. surf. sci., 2007, 卷号: 254, 期号: 2, 页码: 552, 556
Shen Yanming
;
邵淑英
;
Yu Hua
;
范正修
;
贺洪波
;
邵建达
收藏
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浏览/下载:972/249
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提交时间:2009/09/22
ZrO2
thin films
electron beam evaporation
residual stress
oxygen partial pressure
氧分压对电子束蒸发SiO2薄膜机械性质和光学性质的影响
期刊论文
光子学报, 2005, 卷号: 34, 期号: 5, 页码: 742, 745
邵淑英
;
范正修
;
邵建达
;
沈卫星
;
江敏华
收藏
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浏览/下载:702/105
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提交时间:2009/09/22
SiO2薄膜
SiO_2 films
氧分压
Oxygen partial pressure
残余应力
Residual stress
表面形貌
Surface morphology
折射率
Refractive index
电子束蒸发
Electron beam evaporation
ZrO2/SiO2多层膜中膜厚组合周期数及基底材料对残余应力的影响
期刊论文
物理学报, 2005, 卷号: 54, 期号: 7, 页码: 3312, 3316
邵淑英
;
范正修
;
邵建达
收藏
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浏览/下载:902/166
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提交时间:2009/09/22
残余应力
ZrO2/SiO2 multilayers
SiO2
residual stress
ZrO2
periods of repeating thickness
多层膜
周期数
组合
膜厚
基底材料
X射线衍射技术
玻璃基底
电子束蒸发
光学干涉仪
应力值
沉积条件
曲率半径
测量分析
石英基底
变化趋势
结构应变
结晶程度
相互作用
折射率
熔石英
压应力
微结构
Stress analysis of ZrO2/SiO2 multilayers deposited on different substrates with different thickness periods
期刊论文
opt. lett., 2005, 卷号: 30, 期号: 16, 页码: 2119, 2121
邵淑英
;
邵建达
;
贺洪波
;
范正修
收藏
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浏览/下载:491/72
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提交时间:2009/09/22
INTERFACE STRESS
SURFACE STRESS
THIN-FILMS
沉积参量及时效时间对SiO2薄膜残余应力的影响
期刊论文
光学学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 1, 页码: 126, 130
邵淑英
;
田光磊
;
范正修
;
邵建达
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浏览/下载:624/126
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提交时间:2009/09/22
薄膜光学
thin film optics
SiO2薄膜
SiO2 films
残余应力
residual stress
沉积温度
deposition temperature
氧分压
oxygen partial pressure
时效
aging
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