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A Paradigm Shift in Patterning Foundation from Frequency Multiplication to Edge-Placement Accuracy - A Novel Processing Solution by Selective (CPCI-S收录)
会议
作者:
Han, Ting[1]
;
Liu, Hongyi[1]
;
Chen, Yijian[1]
收藏
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2019/04/11
edge-placement errors (EPE)
alternating-material (dual-material) self-aligned multiple patterning (altSAMP)
alternating-material (dual-material) self-aligned quadruple/sextuple patterning (altSAQP/altSASP)
selective etching
cut-hole layout decomposition
probability of failure (POF)
Layout Decomposition and Synthesis for a Modular Technology to Solve the Edge-Placement Challenges by Combining Selective Etching, Direct Sti (CPCI-S收录)
会议
作者:
Liu, Hongyi[1]
;
Han, Ting[1]
;
Zhou, Jun[1]
;
Chen, Yijian[1]
收藏
  |  
浏览/下载:12/0
  |  
提交时间:2019/04/11
edge-placement errors (EPE)
selective etching
alternating-material (dual-material) self-aligned multiple patterning (altSAMP)
alternating-material (dual-material) self-aligned quadruple/sextuple patterning (altSAQP/altSASP)
direct stitching
layout decomposition and synthesis
Cut-hole layout decomposition and synthesis to reduce the effect of edge-placement errors (CPCI-S收录)
会议
作者:
Liu, Hongyi[1]
;
Han, Ting[1]
;
Chen, Yijian[1]
收藏
  |  
浏览/下载:8/0
  |  
提交时间:2019/04/11
Edge-placement errors
Selective etching
Alternating-material self-aligned multiple patterning
Layout decomposition and synthesis
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