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微电子研究所 [5]
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期刊论文 [4]
会议论文 [1]
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2018 [4]
2017 [1]
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Process variation dependence of total ionizing dose effects in bulk nFinFETs
会议论文
作者:
Li B(李博)
;
Huang YB(黄云波)
;
L.Yang
;
Zhang QZ(张青竹)
;
Zheng ZS(郑中山)
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浏览/下载:46/0
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提交时间:2019/05/13
Process variation dependence of total ionizing dose effects in bulk nFinFETs
期刊论文
Microelectronics Reliability, 2018
作者:
Zheng ZS(郑中山)
;
Huang YB(黄云波)
;
Li B(李博)
;
Luo JJ(罗家俊)
;
Han ZS(韩郑生)
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浏览/下载:24/0
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提交时间:2019/03/28
Total ionizing dose and single event effects of 1 Mb HfO2-based resistive random access memory
期刊论文
MICROELECTRONICS RELIABILITY, 2018
作者:
Bi JS(毕津顺)
;
Yuan Duan
;
Xi K(习凯)
;
Li B(李博)
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2019/04/12
Total Ionizing Dose Effects of 55-nm Silicon-Oxide-Nitride-Oxide-Silicon Charge
期刊论文
CHIN. PHYS. LETT., 2018
作者:
Bi JS(毕津顺)
;
Xu YN(徐彦楠)
;
Li B(李博)
;
Xi K(习凯)
;
Wang HB(王海滨)
收藏
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2019/04/12
Total ionizing dose effects and annealing behaviors of HfO2-based MOS capacitor
期刊论文
SCIENCE CHINA, 2017
作者:
Xu YN(徐彦楠)
;
Xu GB(许高博)
;
Xi K(习凯)
;
Li B(李博)
;
Liu M(刘明)
收藏
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2018/07/13
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