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科研机构
西安光学精密机械研... [79]
内容类型
专利 [79]
发表日期
2011 [2]
2006 [2]
2004 [3]
1999 [2]
1998 [1]
1997 [4]
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Method of zinc oxide film grown on the epitaxial lateral overgrowth gallium nitride template
专利
专利号: US7951639, 申请日期: 2011-05-31, 公开日期: 2011-05-31
作者:
CHUA, SOON JIN
;
ZHOU, HAILONG
;
LIN, JIANYI
;
PAN, HUI
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2020/01/13
Method of zinc oxide film grown on the epitaxial lateral overgrowth gallium nitride template
专利
专利号: SG147120A1, 申请日期: 2011-04-29, 公开日期: 2008-11-28
作者:
CHUA, SOO JIN
;
ZHOU, HAILONG
;
LIN, JIANYI
;
PAN, HUI
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浏览/下载:16/0
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提交时间:2019/12/24
110 oriented group iv-vi semiconductor structure, and method for making and using the same
专利
专利号: EP1714359A2, 申请日期: 2006-10-25, 公开日期: 2006-10-25
作者:
ZHISHENG, SHI
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2019/12/31
LOW TEMPERATURE GROWN LAYERS WITH MIGRATION ENHANCED EPITAXY ADJACENT TO AN InGaAsN(Sb) BASED ACTIVE REGION
专利
专利号: WO2006026610A3, 申请日期: 2006-07-06, 公开日期: 2006-07-06
作者:
JOHNSON RALPH
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2019/12/31
Low temperature epitaxial growth of quaternary wide bandgap semiconductors
专利
专利号: US6911084, 申请日期: 2005-06-28, 公开日期: 2005-06-28
作者:
KOUVETAKIS, JOHN
;
TSONG, IGNATIUS S. T.
;
ROUCKA, RADEK
;
TOLLE, JOHN
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2019/12/26
Method of forming nitride-based semiconductor layer, and method of manufacturing nitride-based semiconductor device
专利
专利号: US6821807, 申请日期: 2004-11-23, 公开日期: 2004-11-23
作者:
KANO, TAKASHI
;
OHBO, HIROKI
;
HAYASHI, NOBUHIKO
收藏
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浏览/下载:10/0
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提交时间:2019/12/26
Quantum well intermixing in InGaAsP structures induced by low temperature grown InP
专利
专利号: US6797533, 申请日期: 2004-09-28, 公开日期: 2004-09-28
作者:
THOMPSON, DAVID A.
;
ROBINSON, BRADLEY J.
;
LETAL, GREGORY J.
;
LEE, ALEX S. W.
;
GORDON, BROOKE
收藏
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2019/12/26
Light emitting device structure using nitride bulk single crystal layer
专利
专利号: EP1453159A1, 申请日期: 2004-09-01, 公开日期: 2004-09-01
作者:
DWILINSKI, ROBERT
;
DORADZINSKI, ROMAN
;
GARCZYNSKI, JERZY
;
SIERZPUTOWSKI, LESZEK
;
KANBARA, YASUO, C/O NICHIA CORPORATION
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浏览/下载:14/0
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提交时间:2019/12/31
半導体レーザの製法
专利
专利号: JP2949809B2, 申请日期: 1999-07-09, 公开日期: 1999-09-20
作者:
成井 啓修
;
平田 照二
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提交时间:2020/01/18
半導体レーザの製造方法
专利
专利号: JP2919606B2, 申请日期: 1999-04-23, 公开日期: 1999-07-12
作者:
廣山 良治
;
浜田 弘喜
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提交时间:2019/12/23
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