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河北大学 [6]
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期刊论文 [5]
会议论文 [1]
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2010 [1]
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2006 [1]
2005 [1]
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Low temperature deposition of hydrogenated nanocrystalline SiC films by helicon wave plasma enhanced chemical vapor deposition
期刊论文
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A, 2010, 卷号: 28, 期号: 5, 页码: 1234-1239
作者:
Yu, Wei[1]
;
Lu, Wanbing[2]
;
Teng, Xiaoyun[3]
;
Ding, Wenge[4]
;
Han, Li[5]
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提交时间:2019/12/21
Fabrication of nanocrystalline silicon carbide thin film by helicon wave plasma enhanced chemical vapour deposition
期刊论文
THIN SOLID FILMS, 2007, 卷号: 515, 期号: 5, 页码: 2949-2953
作者:
Yu, Wei[1]
;
Lu, Wanbing[2]
;
Yang, Yanbin[3]
;
Wang, Chunsheng[4]
;
Zhang, Li[5]
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提交时间:2019/12/31
silicon carbide
nanostructures
plasma processing and deposition
Epitaxial growth of ZnO films by helicon-wave-plasma-assisted sputtering
期刊论文
PHYSICA B-CONDENSED MATTER, 2006, 卷号: 382, 期号: 1-2, 页码: 17-20
作者:
Fu, GS[1]
;
Xu, HJ[2]
;
Wang, SF[3]
;
Yu, W[4]
;
Sun, W[5]
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提交时间:2019/12/31
ZnO films
epitaxy
Helicon wave plasma
sputtering
Amorphous silicon nano-particles in a-SiNx : H prepared by helicon wave plasma-enhanced chemical vapour deposition
会议论文
12th International Symposium on Small Particles and Inorganic Clusters, 2005-07-10
作者:
Fu, GS[1]
;
Yang, YB[2]
;
Yu, W[3]
;
Lu, WB[4]
;
Ding, WG[5]
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提交时间:2019/12/31
amorphous silicon nano-particles
a-SiNx : H
HWP-CVD
Growth of nanocrystalline silicon films by helicon wave plasma chemical vapour deposition
期刊论文
CHINESE PHYSICS LETTERS, 2004, 卷号: 21, 期号: 7, 页码: 1320-1322
作者:
Yu, W[1]
;
Wang, BZ[2]
;
Lu, WB[3]
;
Yang, YB[4]
;
Han, L[5]
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提交时间:2019/12/31
Structural and optical properties of hydrogenated amorphous silicon carbide films by helicon wave plasma-enhanced chemical vapour deposition
期刊论文
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, 2004, 卷号: 37, 期号: 23, 页码: 3304-3308
作者:
Yu, W[1]
;
Lu, WB[2]
;
Han, L[3]
;
Fu, GS[4]
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提交时间:2019/12/31
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