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Double-layer resist method to improve descum result when removing negative photoresist
期刊论文
MICRO & NANO LETTERS, 2019, 卷号: 14, 页码: 694-697
作者:
Yang, Zheng
;
Wang, Qiusen
;
Qi, Liping
;
Wang, Xing
;
Li, Kehong
收藏
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浏览/下载:17/0
  |  
提交时间:2019/12/02
photoresists
viscosity
etching
negative photoresist scum
low viscosity positive photoresist
AZ703
double-layer resist method
optimal retracting distance
bottom layer resist
top layer resist
top layer contact
size 8
0 mum
size 1
10 mum
Preparation and Enhanced Hot Corrosion Resistance of a Zr-Doped PtAl2+(Ni, Pt)Al Dual-Phase Coating
期刊论文
ACTA METALLURGICA SINICA, 2018, 卷号: 54, 期号: 4, 页码: 581-590
作者:
Jiang Chengyang
;
Yang Yingfei
;
Zhang Zhengyi
;
Bao Zebin
;
Zhu Shenglong
收藏
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浏览/下载:0/0
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提交时间:2021/02/02
Zr-doping
reactive element
Pt-Al coating
hot corrosion
Preparation and Enhanced Hot Corrosion Resistance of a Zr-Doped PtAl2+(Ni, Pt)Al Dual-Phase Coating
期刊论文
ACTA METALLURGICA SINICA, 2018, 卷号: 54, 期号: 4, 页码: 581-590
作者:
Jiang Chengyang
;
Yang Yingfei
;
Zhang Zhengyi
;
Bao Zebin
;
Zhu Shenglong
收藏
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2021/02/02
Zr-doping
reactive element
Pt-Al coating
hot corrosion
Enhancing aspect profile of half-pitch 32 nm and 22 nm lithography with plasmonic cavity lens
期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2015, 卷号: 106, 期号: 9, 页码: 93110
作者:
Gao, Ping
;
Yao, Na
;
Wang, Changtao
;
Zhao, Zeyu
;
Luo, Yunfei
收藏
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浏览/下载:20/0
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提交时间:2016/11/22
A method of fabricating vertical devices using a metal support film
专利
专利号: EP1502284B1, 申请日期: 2013-08-07, 公开日期: 2013-08-07
作者:
YOO, MYUNG, CHEOL
收藏
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2019/12/24
Fabrication and characterization of molecular scale field-effect transistors
期刊论文
JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY, 2010, 卷号: 20, 期号: 12, 页码: 2305-2309
作者:
Cao, Lingchao
;
Chen, Shiyan
;
Wei, Dacheng
;
Liu, Yunqi
;
Fu, Lei
收藏
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2019/04/09
Optimization of resolution-enhancement technology and dual-layer bottom-antireflective coatings in hypernumerical aperture lithography
期刊论文
Journal of vacuum science & technology b, 2008, 卷号: 26, 期号: 2, 页码: 534-540
作者:
Li, Yanqiu
;
Zhou, Yuan
收藏
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2019/05/10
Electron beam lithography of HSQ/PMMA bilayer resists for negative tone lift-off process
期刊论文
MICROELECTRONIC ENGINEERING, 2008, 卷号: 85, 期号: 5-6, 页码: 814
Yang, HF
;
Jin, AZ
;
Luo, Q
;
Li, JJ
;
Gu, CZ
;
Cui, Z
收藏
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浏览/下载:35/0
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提交时间:2013/09/17
HYDROGEN SILSESQUIOXANE
CONTRAST
STACK
半導体レ-ザ装置の製造方法
专利
专利号: JP1996012945B2, 申请日期: 1996-02-07, 公开日期: 1996-02-07
作者:
宮永 和恒
;
杉野 隆
;
広瀬 正則
;
山本 敦也
;
▲吉▼川 昭男
收藏
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浏览/下载:18/0
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提交时间:2019/12/24
-
专利
专利号: JP1993074957B2, 申请日期: 1993-10-19, 公开日期: 1993-10-19
作者:
KAWADA HATSUMI
;
YAMAMOTO MOTOYUKI
;
NAGASAKA HIROKO
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2020/01/18
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