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科研机构
兰州大学 [1]
内容类型
会议论文 [1]
发表日期
2009 [1]
学科主题
computer s... [1]
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Computer simulation of 3D mask image based on self-adaptive model in VLSI lithography
会议论文
2009 WRI World Congress on Computer Science and Information Engineering, CSIE 2009, Los Angeles, CA, United states, March 31, 2009 - April 2, 2009
作者:
Peng, Fei Cao
;
Lin, Cheng
;
Xiao, Ping Zhang
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提交时间:2017/01/18
Three dimensional
Computer science
Lithography
Simulators
Systems engineering
3D masks
Aerial images
Electromagnetic simulation
Gaussian filters
Hopkins
Image-based
Lithography process
Lithography systems
Off-axis illumination
Scalar quantities
Self-adaptive models
TE wave
Transmission cross coefficient
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