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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 影响微细铝条等离子刻蚀的物理化学因素 期刊论文 半导体技术, 1987, 期号: 5, 页码: 14-17+9 作者:  李思渊;  张旗;  王毓珍;  宣建功 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2015/04/27 等离子刻蚀:5052  向异性:4861  铝条:4408  物理化学因素:3474  反应剂:2318  反应室:2223  刻蚀速率:1633  不均匀性:1512  等离子轰击:1439  光刻胶:1411