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武汉大学 [5]
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期刊论文 [6]
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2019 [3]
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Interface Engineering via MoS2 Insertion Layer for Improving Resistive Switching of Conductive-Bridging Random Access Memory
期刊论文
ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS, 2019, 卷号: 5, 期号: 4
作者:
Wu, Facai
;
Si, Shuyao
;
Cao, Peng
;
Wei, Wei
;
Zhao, Xiaolong
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浏览/下载:26/0
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提交时间:2019/12/05
conductive-bridging random access memory
conductive filaments
electrochemical reactions
ion barriers
molybdenum disulfide
Interface Engineering via MoS2 Insertion Layer for Improving Resistive Switching of Conductive-Bridging Random Access Memory
期刊论文
Advanced Electronic Materials, 2019, 卷号: 5, 期号: 4
作者:
Wu, Facai
;
Si, Shuyao
;
Cao, Peng
;
Wei, Wei
;
Zhao, Xiaolong
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2019/12/05
Chemoselective metal-free indole arylation with cyclohexanones
期刊论文
ORGANIC CHEMISTRY FRONTIERS, 2019, 卷号: 6, 期号: 15, 页码: 2738-2743
作者:
Lu, Chaogang
;
Huang, Huawen*
;
Tuo, Xiaolong
;
Jiang, Pingyu
;
Zhang, Feng
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2019/12/23
Negative differential resistance effect induced by metal ion implantation in SiO2film for multilevel RRAM application
期刊论文
Nanotechnology, 2018, 卷号: 29, 期号: 5
作者:
Wu, Facai
;
Si, Shuyao
;
Shi, Tuo
;
Zhao, Xiaolong
;
Liu, Qi
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浏览/下载:6/0
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提交时间:2019/12/05
Negative differential resistance effect induced by metal ion implantation in SiO2film for multilevel RRAM application
期刊论文
Nanotechnology, 2018, 卷号: 29, 期号: 5
作者:
Si, Shuyao
;
Wu, Facai
;
Liu, Ming
;
Long, Shibing
;
Lv, Hangbing
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2019/12/05
Negative differential resistance effect induced by metal ion implantation in SiO2 film for multilevel RRAM application
期刊论文
NANOTECHNOLOGY, 2018, 卷号: 29, 期号: 5
作者:
Wu, Facai
;
Si, Shuyao
;
Shi, Tuo
;
Zhao, Xiaolong
;
Liu, Qi
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提交时间:2019/12/05
ion implantation
negative differential resistance
nanoparticles
RRAM
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