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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 无金和掺金Si-SiO_2界面的氧退火特性 期刊论文 物理学报, 1985, 期号: 6, 页码: 715-724 作者:  李思渊;  张同军;  王毓珍;  李寿嵩;  殷之平 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2015/04/27 掺金:5420  氧退火:4620  界面态密度:4161  Si-SiO_2:3041  表面电荷:2613  界面硅:2081  浅谷:1957  能态:1852  退火温度:1666  禁带:1224