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半导体光学元件的制造方法 专利
专利号: CN101950924B, 申请日期: 2012-07-04, 公开日期: 2012-07-04
作者:  阿部真司;  川崎和重
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人工模拟海洋大气环境下Sn-0.7Cu无铅焊料的点蚀行为及微量Ga的影响 期刊论文
金属学报, 2011, 期号: 10, 页码: 1327-1334
颜忠; 冼爱平
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水性丙烯酸光致抗蚀干膜的合成 期刊论文
《涂料工业》, 2010, 页码: 33-36
作者:  邓秉明[1];  叶代勇[1]
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半导体光学元件的制造方法 专利
专利号: CN101276993A, 申请日期: 2008-10-01, 公开日期: 2008-10-01
作者:  阿部真司;  川崎和重
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III族氮化物半导体衬底材料的制备研究 学位论文
博士: 中国科学院上海光学精密机械研究所, 2005
作者:  彭观良
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单组分长效干膜润滑剂 专利
专利类型: 发明, 专利号: 94116246.X, 申请日期: 1998-04-15, 公开日期: 1996-04-17
作者:  周惠娣
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G21水溶型光致抗蚀干膜 成果
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  抗蚀      
75-3水溶性光致抗蚀掩孔干膜 成果
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G21水溶型光致抗蚀干膜 成果
主要完成人:  李忠福;  王申典;  李士玢;  何秀珍;  李炜
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水溶性丙烯酸共聚物的制备与性能研究 会议论文
第四届中国国际水性木器涂料发展研讨会, 广东东莞, 2010年05月25日
作者:  邓秉明;  叶代勇
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