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Research on full bridge converter of magnetron sputtering power supply 会议论文
14th IEEE Conference on Industrial Electronics and Applications, ICIEA 2019, 2 Huzhu Road, Xi'an, China, 2019-06-19
作者: Huang, Xiping; Chen, Guitao; Cheng, Shaohua; Ma, Danyang

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Research on VIENNA rectifier based on DSP under unbalanced power grid 会议论文
14th IEEE Conference on Industrial Electronics and Applications, ICIEA 2019, 2 Huzhu Road, Xi'an, China, 2019-06-19
作者: Xing, Kaiting; Huang, Xiping; Chen, Guitao

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Research on VIENNA Rectifier Based on Active Disturbance Rejection Control 会议论文
PROCEEDINGS OF THE 2018 13TH IEEE CONFERENCE ON INDUSTRIAL ELECTRONICS AND APPLICATIONS (ICIEA 2018), 2018-01-01
作者: Yao, Yunqi; Huang, Xiping; Chen, Guitao; Xing, Kaiting; Ma, Danyang

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Design of Bias Power Supply for Magnetron Sputtering with Automatic Equalization Current 会议论文
PROCEEDINGS OF THE 2017 INTERNATIONAL CONFERENCE ON ELECTRONIC INDUSTRY AND AUTOMATION (EIA 2017), 2017-01-01
作者: Huang, Xiping; Chen, Guitao; Nie, Yanlin

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脉冲磁控溅射电源控制策略的研究 期刊论文
2015, 卷号: 31, 页码: 443-447
作者: 黄西平; 刘洋; 孙强; 陈桂涛

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脉冲磁控溅射电源控制策略的研究 会议论文
第六届数控机床与自动化技术专家论坛, 西安, 2015-03-01
作者: 刘洋; 黄西平

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新型直流磁控溅射电源的研究与设计 期刊论文
2015, 卷号: 49, 页码: 61-63
作者: 陈桂涛; 杨欣然; 孙强; 黄西平

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一种用于磁控溅射工艺的电弧检测及抑制方法 专利
申请日期: 2014-01-01, 公开日期: 2014-05-07
作者: 孙强; 宁波; 陈桂涛; 黄西平; 孙向东

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用于等离子体电解氧化的非对称脉冲拓扑及表面处理方法 专利
申请日期: 2014-01-01, 公开日期: 2014-04-30
作者: 陈桂涛; 杨欣然; 孙强; 黄西平; 孙向东

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