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浏览/检索结果: 共5条，第1-5条 帮助 限定条件 专题：贵州大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Design of detection system of temperature signal on polishing interface in CMP semiconductor material of SiC crystal substrate 会议论文 Guangzhou, PEOPLES R CHINA, APR 13-14, 2013 作者:  Gao, Hong;  Su, Jianxiu 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2020/01/02 Design of the temperature signal wireless receiver and display system on polishing interface in chemical mechanical polishing 会议论文 Nanjing, PEOPLES R CHINA, DEC 17-18, 2011 作者:  Gao Hong;  Su Jianxiu 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2019/12/31 Study on the Surface Characteristics of Polishing Pad Used in Chemical Mechanical Polishing 会议论文 Hangzhou, PEOPLES R CHINA, APR 26-28, 2010 作者:  Gao, Hong;  Su, Jianxiu 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2020/01/02 铜化学机械抛光材料去除机理研究 期刊论文 2010, 期号: 1, 页码: 5-9 作者:  苏建修;  高虹;  陈锡渠;  杜家熙;  宁欣 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/28 化学机械抛光  硅片  材料去除机理   基于磨损行为的单晶硅片化学机械抛光材料的去除特性 期刊论文 2009, 卷号: 7, 期号: 3, 页码: 265-269 作者:  苏建修;  高虹;  陈锡渠;  宁欣;  郭东明 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/28 化学机械抛光  材料去除机理  材料去除率  磨损行为