×
验证码:
换一张
忘记密码?
记住我
CORC
首页
科研机构
检索
知识图谱
申请加入
托管服务
登录
注册
在结果中检索
科研机构
苏州纳米技术与纳米... [21]
内容类型
期刊论文 [21]
发表日期
2018 [3]
2016 [6]
2015 [4]
2014 [2]
2013 [1]
2012 [2]
更多...
×
知识图谱
CORC
开始提交
已提交作品
待认领作品
已认领作品
未提交全文
收藏管理
QQ客服
官方微博
反馈留言
浏览/检索结果:
共21条,第1-10条
帮助
限定条件
专题:苏州纳米技术与纳米仿生研究所
第一署名单位
第一作者单位
通讯作者单位
已选(
0
)
清除
条数/页:
5
10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
60
65
70
75
80
85
90
95
100
排序方式:
请选择
作者升序
作者降序
题名升序
题名降序
发表日期升序
发表日期降序
提交时间升序
提交时间降序
High f(T) AlGa(In)N/GaN HEMTs Grown on Si With a Low Gate Leakage and a High ON/OFF Current Ratio
期刊论文
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2018
作者:
Zhu, Guangrun
;
Gao, Hongwei(高宏伟)
;
Sun, Qian(孙钱)
;
Chen, Tangsheng
;
Yang, Hui(杨辉)
收藏
  |  
浏览/下载:85/0
  |  
提交时间:2019/03/27
10 A/567 V normally off p-GaN gate HEMT with high-threshold voltage and low-gate leakage current
期刊论文
ELECTRONICS LETTERS, 2018
作者:
Wang, Qilong
;
Zhang, Bingliang
;
Du, Zhongkai
;
Zhao, Jie(赵杰)
;
Chen, Fu(陈扶)
收藏
  |  
浏览/下载:87/0
  |  
提交时间:2019/03/27
Gate leakage mechanisms in normally off p-GaN/AlGaN/GaN high electron mobility transistors
期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2018
作者:
Ding, Xiaoyu
;
Yu, Guohao
;
Cheng, Kai
;
Cai, Yong
;
Zhang, Baoshun(张宝顺)
收藏
  |  
浏览/下载:31/0
  |  
提交时间:2019/03/27
Performance and retention characteristics of nanocrystalline Si floating gate memory with an Al2O3 tunnel layer fabricated by plasma-enhanced atomic layer deposition
期刊论文
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2016, 卷号: 119, 期号: 7
作者:
Ma, ZY
;
Wang, W
;
Yang, HF
;
Jiang, XF
;
Yu, J
收藏
  |  
浏览/下载:28/0
  |  
提交时间:2017/03/11
AlGaN/GaN metal-insulator-semiconductor high electron mobility transistors with reduced leakage current and enhanced breakdown voltage using aluminum ion implantation
期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2016, 卷号: 108, 期号: 1
作者:
Sun, SC
;
Fu, K(付凯)
;
Yu, GH(于国浩)
;
Zhang, ZL
;
Song, L
收藏
  |  
浏览/下载:36/0
  |  
提交时间:2017/03/11
Diamond based field-effect transistors with SiNX and ZrO2 double dielectric layers
期刊论文
DIAMOND AND RELATED MATERIALS, 2016, 卷号: 69
作者:
Wang, W
;
Fu, K(付凯)
;
Hu, C
;
Li, FN
;
Liu, ZC
收藏
  |  
浏览/下载:21/0
  |  
提交时间:2017/03/11
Normally-off p-GaN/AlGaN/GaN high electron mobility transistors using hydrogen plasma treatment
期刊论文
APPLIED PHYSICS LETTERS, 2016, 卷号: 109, 期号: 15
作者:
Hao, RH
;
Fu, K(付凯)
;
Yu, GH(于国浩)
;
Li, WY
;
Yuan, J
收藏
  |  
浏览/下载:44/0
  |  
提交时间:2017/03/11
Compatibility of AlN/SiNx Passivation With LPCVD-SiNx Gate Dielectric in GaN-Based MIS-HEMT
期刊论文
IEEE ELECTRON DEVICE LETTERS, 2016, 卷号: 37, 期号: 3
作者:
Hua, MY
;
Lu, YY
;
Liu, SH
;
Liu, C
;
Fu, K(付凯)
收藏
  |  
浏览/下载:18/0
  |  
提交时间:2017/03/11
Studies on High-Voltage GaN-on-Si MIS-HEMTs Using LPCVD Si3N4 as Gate Dielectric and Passivation Layer
期刊论文
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2016, 卷号: 63, 期号: 2
作者:
Zhang, ZL(张志利)
;
Yu, GH(于国浩)
;
Zhang, XD(张晓东)
;
Deng, XG(邓旭光)
;
Li, SM(李水明)
收藏
  |  
浏览/下载:38/0
  |  
提交时间:2017/03/11
Printable poly(methylsilsesquioxane) dielectric ink and its application in solution processed metal oxide thin-film transistors
期刊论文
RSC ADVANCES, 2015, 卷号: 5, 期号: 27, 页码: 7
作者:
Wu, XZ(吴馨洲)
;
Chen, Z(陈征)
;
Zhou, T(周腾)
;
Shao, SS(邵霜霜)
;
Xie, ML(谢美兰)
收藏
  |  
浏览/下载:23/0
  |  
提交时间:2015/12/31
©版权所有 ©2017 CSpace - Powered by
CSpace