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科研机构
半导体研究所 [4]
内容类型
会议论文 [4]
发表日期
2003 [1]
2001 [2]
2000 [1]
学科主题
半导体材料 [4]
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学科主题:半导体材料
内容类型:会议论文
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Effects and numerical analysis of argon gas flow on the oxygen concentration in Czochralski silicon single crystal growth
会议论文
iumrs/icem 2002 conference, xian, peoples r china, jun 10-14, 2002
Zhang ZC
;
Ren BY
;
Chen YH
;
Yang SY
;
Wang ZG
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浏览/下载:27/0
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提交时间:2010/11/15
Czochralski method
growth from melt
semiconductor silicon
argon gas flow
computer simulation
oxygen content
FURNACE PRESSURE
Structural evaluation of polycrystalline silicon thin films by hot-wire-assisted PECVD
会议论文
1st international conference on cat-cvd (hot wire cvd) process, kanazawa, japan, nov 14-17, 2000
Feng Y
;
Zhu M
;
Liu F
;
Liu J
;
Han H
;
Han Y
收藏
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浏览/下载:20/0
  |  
提交时间:2010/11/15
poly-Si
structure
hot-wire
plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
MICROCRYSTALLINE SILICON
HYDROGEN
Thermodynamic analysis of GaSb-GaCl3 vapor phase epitaxy
会议论文
1st international symposium on microgravity research and applications in physical sciences and biotechnology, sorrento, italy, sep 10-15, 2000
Lu DC
;
Lin LY
收藏
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浏览/下载:13/0
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提交时间:2010/10/29
TRANSPORT
Epitaxial growth of GaNAs/GaAs heterostructure materials
会议论文
1st asian conference on chemical vapour deposition, shanghai, peoples r china, may 10-13, 1999
Lin YW
;
Pan Z
;
Li LH
;
Zhou ZQ
;
Wang H
;
Zhang W
收藏
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2010/11/15
GaNAs
DC active N-2 plasma
molecular beam epitaxy
nitrogen content
Fourier transform infrared spectroscopy of intensity
BAND-GAP ENERGY
GAAS1-XNX
NITROGEN
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