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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 限定条件 发表日期：2018     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 一种锗的化学机械抛光方法 专利 专利号: CN201410345960.1, 申请日期: 2018-04-03, 公开日期: 2016-01-20 作者:  刘金彪;  杨涛;  赵超;  李俊峰;  贺晓彬 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2019/03/19 抛光垫特性对氧化镓CMP影响的实验研究 期刊论文 工具技术, 2018, 期号: 06, 页码: 29-32 作者:  龚凯[1];  周海[2];  韦嘉辉[3];  宋放[4];  王晨宇[5] 收藏  |  浏览/下载：5/0  |  提交时间：2019/12/24 抛光垫特性  单晶氧化镓  化学机械抛光  材料去除率  表面质量