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浏览/检索结果: 共6条，第1-6条 帮助 限定条件 发表日期：2018    专题：大连理工大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Hydrogen evolution enhancement of ultra-low loading, size-selected molybdenum sulfide nanoclusters by sulfur enrichment 期刊论文 APPLIED CATALYSIS B-ENVIRONMENTAL, 2018, 卷号: 235, 页码: 84-91 作者:  Escalera-Lopez, Daniel;  Niu, Yubiao;  Park, Sung Jin;  Isaacs, Mark;  Wilson, Karen 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2019/12/02 Molybdenum sulfide  Nanoclusters  Sulfur-rich  Hydrogen evolution  Magnetron sputtering deposition   Effects of Hf buffer layer at the Y-doped HfO2/Si interface on ferroelectric characteristics of Y-doped HfO(2 )films formed by reactive sputtering 期刊论文 CERAMICS INTERNATIONAL, 2018, 卷号: 44, 页码: 12841-12846 作者:  Zhang, Yu;  Xu, Jun;  Zhou, Da-Yu;  Wang, Hang-Hang;  Lu, Wen-Qi 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/12/02 Hafnium oxide  Ferroelectricity  Buffer layer  TEM   Effects of Annealing on Residual Stress in Ta2O5 Films Deposited by Dual Ion Beam Sputtering 期刊论文 COATINGS, 2018, 卷号: 8 作者:  Lv, Qipeng;  Huang, Mingliang;  Zhang, Shaoqian;  Deng, Songwen;  Gong, Faquan 收藏  |  浏览/下载：12/0  |  提交时间：2019/12/02 dual ion beam sputtering  residual stress  annealing treatment  Ta2O5 film   Ni-V(or Cr) Co-addition Cu alloy films with high stability and low resistivity 期刊论文 MATERIALS CHEMISTRY AND PHYSICS, 2018, 卷号: 205, 页码: 253-260 作者:  Zheng, Y. H.;  Li, X. N.;  Cheng, X. T.;  Sun, W.;  Liu, M. 收藏  |  浏览/下载：9/0  |  提交时间：2019/12/02 Film  Copper alloy  Stability  Magnetron sputtering  Resistivity   Fabrication of broadband antireflection coatings using wavelength-indirect broadband optical monitoring 期刊论文 OPTIK, 2018, 卷号: 156, 页码: 325-332 作者:  Lv, Qipeng;  Huang, Mingliang;  Deng, Songwen;  Li, Gang 收藏  |  浏览/下载：8/0  |  提交时间：2019/12/02 Ion beam sputtering  Direct broadband optical monitoring  Broadband antireflection coating  Wavelength-indirect broadband optical monitoring   Effects of oxygen flows on optical properties, micro-structure and residual stress of Ta2O5 films deposited by DIBS 期刊论文 OPTIK, 2018, 卷号: 166, 页码: 278-284 作者:  Lv, Qipeng;  Huang, Mingliang;  Deng, Songwen;  Zhang, Shaoqian;  Li, Gang 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2019/12/02 Ion beam sputtering  Ta2O5 film  Oxygen flow  Optical properties  Residual stress