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浏览/检索结果: 共2条，第1-2条 帮助 限定条件 发表日期：2009    专题：上海微系统与信息技术研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Acid and Surfactant Effect on Chemical Mechanical Polishing of Ge2Sb2Te5 期刊论文 JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 2009, 卷号: 156, 期号: 9, 页码: H699-H702 Wang, LY; Liu, B; Song, ZT; Feng, SL; Xiang, YH; Zhang, FX 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2012/03/24 NITROGEN-DOPED GE2SB2TE5  FILM  MEMORY  GLASS   Cation Effect on Copper Chemical Mechanical Polishing 期刊论文 CHINESE PHYSICS LETTERS, 2009, 卷号: 26, 期号: 2, 页码: 28103-28103 Wang, LY; Liu, B; Song, ZT; Feng, SL 收藏  |  浏览/下载：7/0  |  提交时间：2012/03/24 SLURRY  CMP  BENZOTRIAZOLE  PLANARIZATION  MEDIA  GLASS  ACID