高线密度X射线透射光栅的制作工艺

CORC > 微电子研究所 > 中国科学院微电子研究所 > 回溯数据库（1992-2008年）

	高线密度X射线透射光栅的制作工艺
	陈宝钦; 叶甜春; 赵珉; 姜骥; 张庆钊; 牛洁斌; 刘明; 谢常青; 杨家敏; 曹磊峰
刊名	半导体学报
	2007
卷号	28 期号:12 页码:5,2006_2010
关键词	电子束光刻透射光栅 X射线光刻 X射线衍射光学元件
ISSN号	0253-4177
产权排序	1
英文摘要	采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅。首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结构的X射线光刻掩模,然后利用X射线光刻经济、高效地复制X射线透射光栅，整个工艺流程分别利用了电子束光刻分辨率高和X射线光刻效率高的优点,并且可以得到剖面陡直的纳米级光栅线条。最后,测量了制作出的X射线透射光栅对波长为11nm同步辐射光的衍射峰,实验结果表明该光栅具有良好的衍射特性。
语种	中文
公开日期	2010-05-26
内容类型	期刊论文
源URL	[http://10.10.10.126/handle/311049/1610]
专题	微电子研究所_回溯数据库（1992-2008年）
作者单位	中国科学院微电子研究所
推荐引用方式 GB/T 7714	陈宝钦,叶甜春,赵珉,等. 高线密度X射线透射光栅的制作工艺[J]. 半导体学报,2007,28(12):5,2006_2010.
APA	陈宝钦.,叶甜春.,赵珉.,姜骥.,张庆钊.,...&朱效立.(2007).高线密度X射线透射光栅的制作工艺.半导体学报,28(12),5,2006_2010.
MLA	陈宝钦,et al."高线密度X射线透射光栅的制作工艺".半导体学报 28.12(2007):5,2006_2010.