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北京大学 [1]
内容类型
其他 [1]
发表日期
2004 [1]
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Charactcristics of sub-1 nm CVID HfO2 gate dielectrics with HfN electrodcs for advanccd CMOS applications
其他
2004-01-01
Kang, JF
;
Yu, HY
;
Ren, C
;
Wang, XP
;
Li, MF
;
Chan, DSH
;
Liu, XY
;
Han, RQ
;
Wang, YY
;
Kwong, DL
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提交时间:2015/11/13
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