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科研机构
北京航空航天大学 [1]
内容类型
期刊论文 [1]
发表日期
2014 [1]
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A Reliable Si3N4/Al2O3-HfO2 Stack MIM Capacitor for High-Voltage Analog Applications
期刊论文
IEEE TRANSACTIONS ON ELECTRON DEVICES, 2014, 卷号: 61, 页码: 2944-2949
作者:
Ho, Ching-Sung
;
Chang, San-Jung
;
Chen, Shih-Chang
;
Liou, Juin J.
;
Li, Hongge
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提交时间:2020/01/06
Atomic layer deposition (ALD)
capacitance density
high-k
laminated Al2O3-HfO2 (LAHO) insulator
metal-insulator-metal (MIM) capacitor
time-dependent dielectric breakdown (TDDB)
voltage linearity
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