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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：2007     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序作者升序作者降序 Scalability and reliability characteristics of CVD HfO2 gate dielectrics with HfN electrodes for advanced CMOS applications 期刊论文 journal of the electrochemical society, 2007 Kang, J. F.; Yu, H. Y.; Ren, C.; Sa, N.; Yang, H.; Li, M.F.; Chan, D. S. H.; Liu, X. Y.; Han, R. Q.; Kwong, D.L. 收藏  |  浏览/下载：2/0  |  提交时间：2015/11/13 BIAS TEMPERATURE INSTABILITY  OXIDE  METAL  TRANSISTORS  GENERATION  STACK  MODEL  SIO2