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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 学科主题：Physics     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序题名升序题名降序作者升序作者降序 Fabrication of silicon nitride/refractory metal tantalum X-ray mask and its application 期刊论文 HIGH ENERGY PHYSICS AND NUCLEAR PHYSICS-CHINESE EDITION, 2005, 卷号: 29, 页码: #REF! 作者:  Xie, CQ;  Niu, JB;  Wang, DQ;  Dong, LJ;  Chen, DP 收藏  |  浏览/下载：16/0  |  提交时间：2016/04/12 proximity X-ray lithography  X-ray mask  TaSi film  inductively coupled plasma  synchrotron radiation