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安徽大学 [1]
合肥物质科学研究院 [1]
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期刊论文 [2]
发表日期
2019 [2]
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Annealing-induced evolution in interface stability and electrical performance of sputtering-driven rare-earth-based gate oxides
期刊论文
JOURNAL OF ALLOYS AND COMPOUNDS, 2019, 卷号: 778, 期号: 无, 页码: 579-587
作者:
Wang, Die
;
He, Gang
;
Liang, Shuang
;
Liu, Mao
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提交时间:2020/03/31
Dy2O3 gate dielectrics
High-k
Annealing temperature
Optical properties
Electrical characteristics
Annealing-induced evolution in interface stability and electrical performance of sputtering-driven rare-earth-based gate oxides
期刊论文
Journal of Alloys and Compounds, 2019, 卷号: Vol.778, 页码: 579-587
作者:
Shuang Liang
;
Die Wang
;
Mao Liu
;
Gang He
收藏
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提交时间:2019/04/24
DyO
gate
dielectrics
High-k
Annealing
temperature
Optical
properties
Electrical
characteristics
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