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科研机构
西安光学精密机械研究... [2]
内容类型
专利 [1]
期刊论文 [1]
发表日期
2019 [1]
2016 [1]
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专题:西安光学精密机械研究所
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Chemical etching mechanisms and crater morphologies pre-irradiated by temporally decreasing pulse trains of femtosecond laser
期刊论文
Applied Surface Science, 2019, 卷号: 469, 页码: 44-49
作者:
Du, Kun
;
Jiang, Lan
;
Li, Xiaowei
;
Zhang, Hao
;
Wang, Andong
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提交时间:2018/11/30
半导体激光器信息场模拟器
专利
专利号: CN105243949A, 申请日期: 2016-01-13, 公开日期: 2016-01-13
作者:
李帅
;
曲雅臣
;
侯安贵
;
张龙
;
李薇
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提交时间:2019/12/31
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