QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 专题：贵州大学    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Etching Mechanisms of CF3 Etching Fluorinated Si:Molecular Dynamics Simulation 期刊论文 2012, 期号: 7, 页码: 670-674 作者:  Zhao CL(赵成利);  Deng CY(邓朝勇);  Sun WZ(孙伟中);  Zhang JY(张浚源);  Chen F(陈峰) 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2020/01/02 Etching Mechanisms of CF3 Etching Fluorinated Si： Molecular Dynamics Simulation 期刊论文 2012, 卷号: 14, 期号: 7, 页码: 670-674 作者:  赵成利;  邓朝勇;  孙伟中;  张浚源;  陈峰 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/31 分子动力学模拟  CF3  蚀刻率  硅刻蚀  机理  表面能量  仿真结果  稳定状态   F原子与Si表面相互作用的动力学研究 期刊论文 2012, 卷号: 32, 期号: 1, 页码: 53-58 作者:  赵成利;  邓朝勇;  孙伟中;  吕晓丹;  陈峰 收藏  |  浏览/下载：1/0  |  提交时间：2019/12/28 分子动力学  沉积  刻蚀  Si-F反应层