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浏览/检索结果: 共4条，第1-4条 帮助 限定条件 专题：兰州化学物理研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Argon ion beam assisted magnetron sputtering deposition of boron-doped a-Si:H thin films with improved conductivity 期刊论文 Journal of Non-Crystalline Solids, 2013, 卷号: 378, 页码: 177-180 作者:  Wang LQ(王凌倩);  Wang, Weiyan;  Huang, Junjun;  Zeng, Yuheng;  Tan, Ruiqin 收藏  |  浏览/下载：19/0  |  提交时间：2015/10/19 Argon ion beam assisted magnetron sputtering  Boron-doped a-Si:H thin film  Dark conductivity   Friction and Wear Properties of Graphite-Like Carbon Films Deposited on Different Substrates with a Different Interlayer Under High Hertzian Contact Stress 期刊论文 Tribology Letters, 2012, 卷号: 46, 期号: 3, 页码: 243-254 作者:  Wang YJ(王永军);  Li HX(李红轩);  Liu XH(刘晓红);  Ji L(吉利);  Wu YX(吴艳霞) 收藏  |  浏览/下载：11/0  |  提交时间：2013/07/12 Graphite-like carbon film  Interlayer  Tribological properties  Substrate plastic deformation   Influence of substrate bias voltage on the microstructure and residual stress of CrN films deposited by medium frequency magnetron sputtering 期刊论文 Materials Science and Engineering B, 2011, 卷号: 176, 页码: 850-854 作者:  Ji L(吉利);  Li HX(李红轩);  Li HX(李红轩);  Zhou HD(周惠娣);  Chen JM(陈建敏) 收藏  |  浏览/下载：20/0  |  提交时间：2012/09/24 CrN films  Medium frequency magnetron sputterin  Substrate bias voltage  Microstructure  Residual stress   Effect of N2/CH4 flow ratio on microstructure and composition of hydrogenated carbon nitride films prepared by a dual DC-RF plasma system 期刊论文 Journal of Non-Crystalline Solids, 2007, 卷号: 353, 页码: 136-142 作者:  Hao JY(郝俊英);  Xue QJ(薛群基);  Liu WM(刘维民) 收藏  |  浏览/下载：105/0  |  提交时间：2013/11/01 Films and coatings  Chemical vapor deposition  Plasma deposition  Vapor phase deposition  Hardness  Indentation  Microindentation  Microstructure  FTIR measurements  XPS