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浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 专题：微电子研究所    第一署名单位    第一作者单位    通讯作者单位     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 ZEP520正性电子抗蚀剂的工艺研究 期刊论文 微细加工技术, 2005, 期号: 1, 页码: 7，6-11,16 作者:  赵新为;  龙世兵;  李志刚;  陈宝钦;  刘明 收藏  |  浏览/下载：10/0  |  提交时间：2010/05/26 Zep520抗蚀剂   SiO2／Ta界面反应及其对Cu扩散的影响 期刊论文 北京科技大学学报, 2003, 卷号: 25, 期号: 1, 页码: 3，33-35 作者:  张国海;  龙世兵 收藏  |  浏览/下载：3/0  |  提交时间：2010/05/25 Sio2／ta界面   SiO2／Tal界面反应及其对铜扩散的影响 期刊论文 半导体学报, 2002, 卷号: 23, 期号: 10, 页码: 5,1046_1050 作者:  龙世兵;  张国海 收藏  |  浏览/下载：6/0  |  提交时间：2010/05/25 Sio2／ta界面