QQ客服 官方微博 反馈留言

浏览/检索结果: 共3条，第1-3条 帮助 限定条件 学科主题：微电子学     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 Effect of the technology of implanting nitrogen into buried oxide on the radiation hardness of the top gate oxide for partially depleted SOIPMOSFET 期刊论文 chinese physics, 2005, 卷号: 14, 期号: 3, 页码: 565-570 Zheng ZS; Liu ZL; Zhang GQ; Li N; Fan K; Zhang EX; Yi WB; Chen M; Wang X 收藏  |  浏览/下载：24/0  |  提交时间：2010/03/17 SOIPMOSFET   Effects of techniques of implanting nitrogen into buried oxide on the characteristics of partially depleted SOIPMOSFET 期刊论文 chinese physics letters, 2005, 卷号: 22, 期号: 3, 页码: 654-656 Zheng ZS; Liu ZL; Zhang GQ; Li N; Fan K; Zhang EX; Yi WB; Chen M; Wang X 收藏  |  浏览/下载：108/0  |  提交时间：2010/03/17 SCATTERING   Effects of the technology of implanting nitrogen into buried oxide layer on the characteristics of partially depleted SOI nMOSFET 期刊论文 acta physica sinica, 2005, 卷号: 54, 期号: 1, 页码: 348-353 Zheng ZS; Liu ZL; Zhang GQ; Li N; Fan K; Zhang EX; Yi WB; Chen M; Wang X 收藏  |  浏览/下载：33/0  |  提交时间：2010/03/17 SOI