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科研机构
兰州大学 [7]
内容类型
期刊论文 [5]
会议论文 [2]
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2010 [1]
2009 [2]
2005 [2]
2004 [1]
2001 [1]
学科主题
physics [7]
materials ... [1]
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学科主题:physics
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Low temperature growth of vanadium pentoxide nanomaterials by chemical vapour deposition using VO(acac)(2) as precursor
期刊论文
JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS, 2010, 卷号: 43, 期号: 18, 页码: -
作者:
Wang, Y
;
Su, Q
;
Chen, CH
;
Yu, ML
;
Jhan, G
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2015/05/25
Deposition and Growth Mechanism of Low-Temperature Crystalline Silicon Films on Inexpensive Substrates
会议论文
Korea-China Symposium on Advanced Functional Films for Information, Incheon, SOUTH KOREA, SEP 28-OCT 02, 2008
作者:
He, DY
;
Yin, M
;
Wang, JX
;
Gao, PQ
;
Li, JS
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2015/07/31
Low-temperature crystalline Si films
Inductively coupled plasma CVD
Al-induced crystallization growth
Inexpensive substrates
Columnar growth of crystalline silicon films on aluminium-coated glass by inductively coupled plasma CVD at room temperature
期刊论文
CHINESE PHYSICS B, 2009, 卷号: 18, 期号: 2, 页码: 773-777
-
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2015/05/25
surface structure
columnar growth
inductively coupled plasma CVD
crystalline silicon films
Al-induced crystallization during low-temperature deposition of Si films by inductively coupled plasma CVD
会议论文
11th China-Korea Symposium on Thin Film Materials, Chengdu, PEOPLES R CHINA, JUN 28-JUL 05, 2004
作者:
He, DY
;
Wang, XQ
;
Chen, Q
;
Li, JS
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/07/31
inductively coupled plasma CVD
Al-induced crystallization growth
low-temperature poly-Si films
Aluminum-induced crystallization during deposition of silicon films by inductively coupled plasma CVD
期刊论文
ACTA PHYSICA SINICA/物理学报, 2005, 卷号: 54, 期号: 1, 页码: 269-273
作者:
Wang, XQ
;
Li, JS
;
Chen, Q
;
Qi, J
;
Yin, M
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浏览/下载:5/0
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提交时间:2015/05/25
ICP-CVD
Al-induced crystallization
Si thin films
low-temperature growth
Low-temperature growth and optical properties of radial ZnO nanowires
期刊论文
MATERIALS LETTERS, 2004, 卷号: 58, 期号: 30
-
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2014/12/05
radial ZnO nanowires
luminescence
chemical vapor deposition
Control of the surface reactions during the low-temperature growth of polycrystalline silicon films
期刊论文
ACTA PHYSICA SINICA/物理学报, 2001, 卷号: 50, 期号: 4, 页码: 779-783
作者:
He, DY
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/05/25
polycrystalline silicon films
low temperature growth
growing surface reaction
bias
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