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Novel Sn-assisted nitridation of Ge/HfO2 interface and improved electrical properties of the MOS capacitor 期刊论文
JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 2014, 卷号: 53, 期号: 4, 页码: 41301
作者:  赵梅;Zhao, M;  Liu, L;  Liang, RR;  Wang, J;  Xu, J
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