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浏览/检索结果: 共1条，第1-1条 帮助 限定条件 发表日期：1995     已选(0)清除 条数/页：5101520253035404550556065707580859095100   排序方式：请选择作者升序作者降序题名升序题名降序发表日期升序发表日期降序提交时间升序提交时间降序 反应离子深刻蚀硅的研究 期刊论文 传感技术学报, 1995, 期号: 03 姜建东; 孙承龙; 王渭源; 王德宁 收藏  |  浏览/下载：4/0  |  提交时间：2012/03/29 K1 反应离子刻蚀  各向异性深刻蚀  侧壁保护机制  刻蚀速率