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科研机构
兰州大学 [2]
内容类型
期刊论文 [2]
发表日期
1991 [2]
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发表日期:1991
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沉积条件和内应力对a-Si:H膜光致发光谱的影响
期刊论文
半导体技术, 1991, 期号: 5, 页码: 31-33
作者:
王万录
;
高锦英
;
廖克俊
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提交时间:2015/04/27
光致发光谱:4765
缺陷态:4705
内应力:4659
a-Si:H:3706
沉积条件:2774
射频功率:2415
H膜:2124
发光强度:816
声子:721
峰值能量:689
直流热等离子体低压高速率合成金刚石薄膜
期刊论文
兰州大学学报, 1991, 期号: 2, 页码: 183-184
作者:
王万录
;
高锦英
;
廖克俊
;
任罡
;
邱文元
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浏览/下载:2/0
  |  
提交时间:2015/04/27
金刚石薄膜:8739
热等离子体:3485
速率合成:2321
化学气相沉积法:1949
微波等离子体:793
直流等离子体化学气相沉积:674
射频等离子体:584
兰州大学:558
气相合成:538
衬底材料:506
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