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科研机构
半导体研究所 [2]
内容类型
期刊论文 [2]
发表日期
2006 [2]
学科主题
光电子学 [1]
半导体材料 [1]
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发表日期:2006
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Reduction of dislocations in GaN epilayer grown on Si (111) substrates using a GaN intermedial layer
期刊论文
chinese physics letters, 2006, 卷号: 23, 期号: 9, 页码: 2591-2594
Wang JF (Wang Jian-Feng)
;
Zhang BS (Zhang Bao-Shun)
;
Zhang JC (Zhang Ji-Cai)
;
Zhu JJ (Zhu Jian-Jun)
;
Wang YT (Wang Yu-Tian)
;
Chen J (Chen Jun)
;
Liu W (Liu Wei)
;
Jiang DS (Jiang De-Sheng)
;
Yao DZ (Yao Duan-Zheng)
;
Yang H (Yang Hui)
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提交时间:2010/04/11
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
HIGH-QUALITY GAN
ALN BUFFER LAYER
NUCLEATION LAYER
PHASE EPITAXY
EVOLUTION
DENSITY
SILICON
STRESS
SI
Transport phenomena in radial flow MOCVD reactor with three concentric vertical inlets
期刊论文
journal of crystal growth, 2006, 卷号: 293, 期号: 2, 页码: 498-508
Zuo R (Zuo Ran)
;
Zhang H (Zhang Hong)
;
Liu XL (Liu Xiang-lin)
收藏
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浏览/下载:58/0
  |  
提交时间:2010/04/11
flow recirculation
numerical modeling
reactor
transport process
MOCVD
thin film growth
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION
PHASE EPITAXY
MOVPE REACTOR
GROWTH
DESIGN
GAN
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