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期刊论文 [18]
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发表日期
2004 [24]
学科主题
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共24条,第1-10条
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限定条件
发表日期:2004
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10
15
20
25
30
35
40
45
50
55
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65
70
75
80
85
90
95
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Patterned uniformly orientated silicon nanocrystallite films and efficient field emission characteristics
期刊论文
Solid state communications, 2004, 卷号: 129, 期号: 9, 页码: 555-558
作者:
Yu, K
;
Zhu, ZQ
;
Wang, WM
;
Chen, SQ
;
Li, Q
收藏
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浏览/下载:24/0
  |  
提交时间:2019/05/09
Silicon nanocrystallites
Electron field emission
Field emission from silicon nanocrystallite films with compact alignment and uniform orientation
期刊论文
Chinese physics letters, 2004, 卷号: 21, 期号: 1, 页码: 203-206
作者:
Yu, K
;
Wang, WM
;
Zhu, ZQ
;
Zhang, YS
;
Yu, XW
收藏
  |  
浏览/下载:16/0
  |  
提交时间:2019/05/09
High-quality carbon-doped beta-type FeSi2 films synthesized by ion implantation
期刊论文
THIN SOLID FILMS, 2004, 卷号: 461, 期号: 1, 页码: 48
Dong, C
;
Li, X
;
Nie, D
;
Xu, L
;
Zhang, Z
收藏
  |  
浏览/下载:15/0
  |  
提交时间:2013/09/17
TRANSMISSION ELECTRON-MICROSCOPY
EPITAXIAL BETA-FESI2 FILMS
PULSED-LASER DEPOSITION
BEAM SYNTHESIS
THIN-FILMS
SEMICONDUCTING BETA-FESI2
BAND-GAP
GROWTH
SI(100)
MICROSTRUCTURE
Atomistic simulation of defects evolution in silicon during annealing after low energy self-ion implantation
期刊论文
materials science in semiconductor processing, 2004
Yu, M
;
Huang, R
;
Zhang, X
;
Wang, YY
;
Suzuki, K
;
Oka, H
收藏
  |  
浏览/下载:1/0
  |  
提交时间:2015/11/10
simulation
defects
silicon
annealing
TRANSIENT ENHANCED DIFFUSION
DOPANT DIFFUSION
DISSOLUTION
MODEL
SI
Molecular dynamics simulation of ion implantation into hafnium dioxide
期刊论文
nuclear instruments methods in physics research section b beam interactions with materials and atoms, 2004
Ji, HH
;
Yu, M
;
Shi, H
;
Shi, XK
;
Huang, R
;
Zhang, X
;
Zhang, JY
;
Suzuki, K
;
Oka, H
收藏
  |  
浏览/下载:1/0
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提交时间:2015/11/12
molecular dynamics (MD)
simulation
ion implantation
hafnium dioxide (HfO2)
STOPPING-POWER MODEL
SILICON
PROFILES
RANGES
A new damage model for ion implantation simulation with molecular dynamics method
其他
2004-01-01
Wang, R
;
Yu, M
;
Zhan, K
;
Shi, XK
;
Ji, HH
;
Zhang, JY
;
Oka, H
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2015/11/13
ion implantation
simulation
damage model
amorphous pockets
amorphization
SILICON
MORPHOLOGY
Electroless copper plating on silicon surface for MEMS
其他
2004-01-01
Li, Y
;
Li, ZH
;
Hao, YL
;
Yan, GZ
;
Wu, WG
;
Han, X
收藏
  |  
浏览/下载:3/0
  |  
提交时间:2015/11/13
MEMS
electroless plating
oxygen plasma bombardment
REACE: A new algorithm for low energy ion implantation simulation.
其他
2004-01-01
Shi, XK
;
Yu, M
;
Shi, H
;
Huang, R
;
Zhang, X
;
Wang, YY
;
Zhang, JY
收藏
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浏览/下载:3/0
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提交时间:2015/11/13
MONTE-CARLO SIMULATION
STOPPING-POWER MODEL
MOLECULAR-DYNAMICS
SILICON
PROFILES
Defects in ion implantation and annealing studied by atomistic model
其他
2004-01-01
Yu, M
;
Wang, R
;
Ji, HH
;
Shi, XK
;
Zhan, K
;
Wang, YY
;
Zhang, JY
;
Oka, H
收藏
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浏览/下载:4/0
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提交时间:2015/11/13
simulation
implantation
annealing
shallow junction
SILICON
SIMULATION
Electroless copper plating on silicon surface for MEMS
其他
2004-01-01
Li, Yi
;
Li, Zhihong
;
Hao, Yilong
;
Yan, Guizhen
;
Wu, Wengang
;
Han, Xiang
收藏
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/11/13
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