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西安光学精密机械研究... [1]
内容类型
专利 [1]
发表日期
1999 [1]
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发表日期:1999
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窒化物系III-V族化合物半導体の成長方法、半導体装置の製造方法、窒化物系III-V族化合物半導体成長用基板および窒化物系III-V族化合物半導体成長用基板の製造方法
专利
专利号: JP1999243253A, 申请日期: 1999-09-07, 公开日期: 1999-09-07
作者:
橋本 茂樹
;
宮嶋 孝夫
;
冨岡 聡
;
秋本 克洋
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提交时间:2019/12/31
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