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窒化物系III-V族化合物半導体の成長方法、半導体装置の製造方法、窒化物系III-V族化合物半導体成長用基板および窒化物系III-V族化合物半導体成長用基板の製造方法 专利
专利号: JP1999243253A, 申请日期: 1999-09-07, 公开日期: 1999-09-07
作者:  橋本 茂樹;  宮嶋 孝夫;  冨岡 聡;  秋本 克洋
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