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科研机构
半导体研究所 [5]
内容类型
期刊论文 [4]
会议论文 [1]
发表日期
1998 [5]
学科主题
半导体材料 [4]
光电子学 [1]
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发表日期:1998
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The growth of an AlGaN/GaN modulation-doped heterostructure by NH3 source molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 1998, 卷号: 192, 期号: 1-2, 页码: 93-96
Zhang JP
;
Sun DZ
;
Li XB
;
Wang XL
;
Fu RH
;
Kong MY
收藏
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浏览/下载:29/0
  |  
提交时间:2010/08/12
GaN
2DEG
MD heterostructure
MBE
photoluminescence
GAN
LUMINESCENCE
PLASMA
GALLIUM NITRIDE
Low-temperature growth properties of Si1-xGex by disilane and solid-Ge molecular beam epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 1998, 卷号: 193, 期号: 4, 页码: 535-540
Liu JP
;
Kong MY
;
Li JP
;
Liu XF
;
Huang DD
;
Sun DZ
收藏
  |  
浏览/下载:33/0
  |  
提交时间:2010/08/12
Si1-xGex alloys
low temperature epitaxy
desorption
adsorption
surface morphology
growth kinetics
HYDROGEN DESORPTION
SI(100)
SI
SURFACTANT
GERMANIUM
MECHANISM
KINETICS
ALLOYS
SI2H6
GAS-SOURCE MBE
The dependence of growth rate of GaN buffer layer on growth parameters by metalorganic vapor-phase epitaxy
期刊论文
journal of crystal growth, 1998, 卷号: 193, 期号: 1-2, 页码: 23-27
Liu XL
;
Lu DC
;
Wang LS
;
Wang XH
;
Wang D
;
Lin LY
收藏
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浏览/下载:32/0
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提交时间:2010/08/12
MOVPE
GaN buffer layer
growth rate
growth parameters
TRIMETHYLGALLIUM
MECHANISMS
QUALITY
AMMONIA
DIODES
MOCVD
GAAS
THERMAL-DECOMPOSITION
Low-temperature growth of cubic GaN by metalorganic chemical-vapor deposition
期刊论文
thin solid films, 1998, 卷号: 326, 期号: 1-2, 页码: 251-255
Zheng LX
;
Yang H
;
Xu DP
;
Wang XJ
;
Li XF
;
Li JB
;
Wang YT
;
Duan LH
;
Hu XW
收藏
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浏览/下载:49/0
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提交时间:2010/08/12
nitrides
MOCVD
surface morphology
growth mechanism
PHASE EPITAXY
GAAS
OSCILLATIONS
MOLECULAR-BEAM EPITAXY
Growth of Fe doped semi-insulating InP by LP-MOCVD
会议论文
conference on integrated optoelectronics ii, beijing, peoples r china, sep 18-19, 1998
Yan XJ
;
Zhu HL
;
Wang W
;
Xu GY
;
Zhou F
;
Ma CH
;
Wang XJ
;
Tian HL
;
Zhang JY
;
Wu RH
;
Wang QM
收藏
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2010/10/29
semi-insulating
Fe-doped
MOCVD
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