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发表日期
1997 [135]
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发表日期:1997
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光半導体素子の製造方法
专利
专利号: JP2725449B2, 申请日期: 1997-12-05, 公开日期: 1998-03-11
作者:
北村 光弘
;
佐々木 達也
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浏览/下载:15/0
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提交时间:2020/01/13
Silicon cylinder grown on the surface of a silicon wafer
期刊论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 1997, 卷号: 182, 期号: 3-4, 页码: 337-340
-
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浏览/下载:2/0
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提交时间:2015/05/25
single-crystalline cylinder
silicon
growth
铋对铜电解精炼中阴极铜沉积的微观结构的影响
期刊论文
http://electrochem.xmu.edu.cn/CN/abstract/abstract9536.shtml, 1997
鲁道荣
;
林建新
;
Lu Daorong
;
Lin Jianxing
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浏览/下载:26/0
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提交时间:2013/11/18
铋
铜沉积
电结晶形态
晶面反向
晶胞尺寸
Bismuth
Copper depostion
Electrocrystal formation
Crystal orientation
Cell dimension
半導体レーザ素子
专利
专利号: JP2723921B2, 申请日期: 1997-11-28, 公开日期: 1998-03-09
作者:
田中 俊明
;
梶村 俊
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浏览/下载:11/0
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提交时间:2020/01/13
面発光型半導体レーザーの製造方法
专利
专利号: JP2719631B2, 申请日期: 1997-11-21, 公开日期: 1998-02-25
作者:
伊賀 健一
;
古沢 浩太郎
;
茨木 晃
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浏览/下载:7/0
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提交时间:2019/12/24
半導体レーザ素子
专利
专利号: JP2721274B2, 申请日期: 1997-11-21, 公开日期: 1998-03-04
作者:
関 章憲
;
細羽 弘之
;
幡 俊雄
;
近藤 雅文
;
須山 尚宏
收藏
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浏览/下载:17/0
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提交时间:2020/01/13
Molecular beam epitaxy growth of iny2al1-y2as/in0.73ga0.27as/iny1al1-y1as/inp p-hemts with enhancement conductivity using an intentional nonlattice-matched buffer layer
期刊论文
Journal of vacuum science & technology b, 1997, 卷号: 15, 期号: 6, 页码: 2021-2025
作者:
Jiang, C
;
Xu, B
;
Li, HX
;
Liu, FQ
;
Gong, Q
收藏
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浏览/下载:19/0
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提交时间:2019/05/12
Synthesis of diamond from polymer seeded with nanometer-sized diamond particles
期刊论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 1997, 卷号: 181, 期号: 3, 页码: 308-313
作者:
Wang, XJ
;
Chen, JS
;
Zheng, ZH
;
Sun, Z
;
Yan, FY
收藏
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浏览/下载:1/0
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提交时间:2015/12/15
Ge composition saturation behavior during low-temperature Si1-xGex growth by disilane and solid Ge molecular beam epitaxy
期刊论文
JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH, 1997, 卷号: 181, 期号: 4, 页码: 441-445
作者:
Liu, JP
;
Liu, XF
;
Li, JP
;
Sun, DZ
;
Kong, MY
收藏
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浏览/下载:30/0
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提交时间:2021/02/02
Si1-xGex alloys
low-temperature epitaxy
composition dependence
growth kinetics
P型ZnTe単結晶の製造方法
专利
专利号: JP2708866B2, 申请日期: 1997-10-17, 公开日期: 1998-02-04
作者:
菱田 有二
;
石井 宏明
收藏
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浏览/下载:12/0
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提交时间:2019/12/26
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